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鍍膜�(jī)
閱讀�962�(shí)間:2022-02-17 14:56:37

基本�(nèi)�

    真空鍍膜�(jī)是一種直流磁控反�(yīng)濺射鍍膜�(jī),主要應(yīng)用于太陽能真空管的制造過�。根�(jù)廠家工藝要求和技�(shù)參數(shù),以PLC、觸摸屏作為硬件開發(fā)平臺(tái),設(shè)�(jì)三靶磁濺式真空鍍膜機(jī)的電氣控制系�(tǒng)。工件旋�(zhuǎn)和靶旋轉(zhuǎn)均采用模塊化的直流電�(jī)�(qū)�(dòng)電路,通過PLC軟件程序?qū)崿F(xiàn)電樞降壓軟起�(dòng)。采用分子泵替代油擴(kuò)散泵,解決了鍍膜生產(chǎn)中油�(kuò)散泵出現(xiàn)的返油現(xiàn)�,提高鍍膜質(zhì)量,降低了控制系�(tǒng)的功�,節(jié)約電�90%以上。分子泵VVVF自適�(yīng)控制的速度閉環(huán)控制建立于真空室真空度的基礎(chǔ)�,從而有效解決了真空度穩(wěn)定和陡降之間的矛盾。獲得了與技�(shù)工藝參數(shù)相適�(yīng)的靶電源模糊控制方法,該方法用軟件程序簡(jiǎn)化硬件電�,明顯優(yōu)于傳�(tǒng)的PID控制方法,模糊化處理的電流反饋回路解��

維庫電子�,電子知�(shí),一查百��

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