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X射線光電子能譜儀
閱讀�1429時間�2022-03-22 10:31:19

    X-射線光電子能譜儀,是一種表面分析技�(shù),主要用來表征材料表面元素及其化�(xué)狀�(tài)。其基本原理是使用X-射線,如Al Ka =1486.6eV,與樣品表面相互作用,利用光電效�(yīng),激�(fā)樣品表面�(fā)射光電子,利用能量分析器,測量光電子動能(K.E),根�(jù)B.E=hv-K.E-W.F,�(jìn)而得到激�(fā)電子的結(jié)合能(B.E)�

基本�(nèi)�

    主要用途: XPS� 1.固體樣品的表面組成分析,化學(xué)狀�(tài)分析,取樣深度為�3nm 2.元素成分的深度分析(角分辨方式和氬離子刻蝕方式) 3.可�(jìn)行樣品的原位處理 AES� 1.可�(jìn)行樣品表面的微區(qū)選點(diǎn)分析(包括點(diǎn)分析,線分析和面分析� 2.可�(jìn)行深度分析適合: 納米薄膜材料,微電子材料,催化劑,摩擦化�(xué),高分子材料的表面和界面研究

    儀器類別: 03030707 /儀器儀� /成份分析儀�

    指標(biāo)信息� 主真空室�

    1×1010� XPS� AES: 分辨率:0.8cV 電子槍束斑:75nm 靈敏度:80KCPS 信噪比:大于70:1 角分辨:5°�90° 靈敏度:255KCPS A1/Mg雙陽極靶 能量分辨率:0.3% 位置靈敏檢測器(PSD�

    附件信息� XPS�

    1.快速氬離子刻蝕� AES�

    1.快速氬離子刻蝕�

    2.能量損失� ,

    主要研究�(lǐng)域包括:

    �1)TiO2納米光催化以及在空氣和水凈化方面的應(yīng)��

    �2)汽車尾氣凈化催化劑新型金屬載體的研��

    �3)納米藥物載體及靶向藥物的研��

    �4)納米導(dǎo)電陶瓷薄膜材料的研究�

    �5)納米雜化超硬薄膜材料及摩擦化學(xué)的研究;

    �6)納米發(fā)光材料及納米分析化學(xué)研究�

    �7)有�(jī)電致�(fā)光材料的表面化學(xué)研究�

    �8)納米材料在香煙減毒凈化上的�(yīng)用研��

    �9)無�(jī)納米殺菌與抗菌材料及其在飲用水凈化上的作用;

    �10)電解水制氧電極材料的研�


維庫電子�,電子知�,一查百��

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