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膜厚儀
閱讀�9560�(shí)間:2010-11-08 14:35:55

  膜厚儀是薄膜厚度測(cè)�?jī)x的簡(jiǎn)�(chēng),是一種用�(lái)在線并定量的�(cè)量透光或者半透光的各種薄膜厚度的儀器儀�,通常采用光干涉原理測(cè)量薄膜厚度�

作用

  膜厚儀可應(yīng)用于在線膜厚�(cè)�,�(cè)氧化�,SiNx,感光保護(hù)膜和半導(dǎo)體膜.也可以用�(lái)�(cè)量鍍?cè)�?�,�,陶瓷和塑料等上的粗糙膜層. 薄膜表面或界面的反射光會(huì)與從基底的反射光相干�,干涉的發(fā)生與膜厚及折光系�(shù)等有�(guān),因此可通過(guò)�(jì)算得到薄膜的厚度.光干涉法是一種無(wú)�,精確且快速的光學(xué)薄膜厚度�(cè)量技�(shù),薄膜�(cè)量系�(tǒng)采用光干涉原理測(cè)量薄膜厚��

特點(diǎn)

  1,可以�(cè)量多層膜中每一層的厚度

  2,三維的厚度型�

  3,�(yuǎn)程控制和在線�(cè)�

  4,可做150mm or 300mm 的大范圍的掃描測(cè)�

  5,豐富的材料庫(kù):操作軟件的材料庫(kù)帶有大量材料的n和k�(shù)�(jù),基本上的常用材料都包括在這�(gè)材料�(kù)�.用戶(hù)也可以在材料�(kù)中輸入沒(méi)有的材料.

  6,軟件操作�(jiǎn)�,�(cè)速快:膜厚�(cè)�?jī)x操作非常�(jiǎn)�,�(cè)量速度�:100ms-1s.

  7,軟件帶有�(gòu)建材料結(jié)�(gòu)的拓展功�,可對(duì)�/多層薄膜�(shù)�(jù)�(jìn)行擬合分�,可對(duì)薄膜材料�(jìn)行預(yù)先模擬設(shè)�(jì).

  8,軟件帶有可升�(jí)的掃描功�,�(jìn)行薄膜二維的�(cè)�,并將�(jié)果以2D�3D的形式顯�.軟件其他的升�(jí)功能還包括在線分析軟�,�(yuǎn)程控制模塊等

技�(shù)參數(shù)

  厚度�(cè)�:10納米-250微米; 可以選擇250nm-1100nm間任一波長(zhǎng),也可在該范圍�(nèi)選擇多波�(zhǎng)分析;

  波長(zhǎng): 250-1100nm

  厚度范圍: 10nm--250m

  分辨�: 0,1nm

  重復(fù)�: 0,3nm

  �(zhǔn)確率: <1[%] (100nm--100m)

  �(cè)試時(shí)�: 100ms -- <1s

  分析層數(shù): 1-- 4

  離光纖距�: 1-5mm

  離鏡頭距�: 5mm-- 100mm

  入射角度: 90°

  光斑�(diǎn)大小: 400m

  微光斑手�: 與顯微鏡�(lián)�,1-- 20m with Microscope 10x/20x/50x Magnification and MFA-Adapter;

  光纖�(zhǎng)�: 2m (other lengthes on request)

  接口: USB 1.1 (RS-232)

  電源需�: 12 VDC@1,2A, 220 VAC 50/60 Hz

  尺寸: 180mm x 152 mm x 263mm

  總量: 3.5 kg

使用�(chǎng)�

  膜厚儀主要�(yīng)用于晶片或玻璃表面的介電絕緣�(SiO2, Si3N4, Photo-resist, ITO, ...); 晶片或玻璃表面超薄金屬層(Ag, Al, Au, Ti, ...); DLC(Diamond Like Carbon)硬涂�;SOI硅片; MEMs 厚層薄膜(100m up to 250m); DVD/CD 涂層; 光學(xué)鏡頭涂層; SOI硅片; 金屬�; 晶片與Mask間氣�; 減薄的晶�(< 120m); 瓶子或注射器等帶弧度的涂�; 薄膜工業(yè)的在線過(guò)程控制等等許多場(chǎng)合�

維庫(kù)電子�,電子知�(shí),一查百��

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